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近源等离子溅射体系-金沙5wk登录平台

公布工夫:2018-06-23  阅读次数:152

近源等离子溅射体系差别取射频磁控溅射体系,它是经由过程靶材远处发生高密度等离子体完成溅射的。等离子体经PLS出口的发射电磁线圈放大,并由会聚线圈完成等离子偏向的会聚取掌握,到达完整掩盖靶材外面。靶里经由过程施加背偏压,正在靶里悉数外面构成高密度电流,靶材获得匀称的刻蚀,相对通例磁控溅射,削减了靶中毒的征象,同时对非金属薄膜进步了堆积速度。同时可正在靶材上施加直流偏压,用于溅射绝缘靶材。

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